工艺设备
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去离子水是通过离子交换树脂除去水中的离子态杂质而得到的近于纯净的水，其生产装置设计的合理与否直接关系到去离子水质量的好坏及运营的经济性。 [1]
去离子水制取工艺及其特点
1、离子交换树脂制取去离子水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→后置保安过滤器→用水点。
（特点：污染比较大，自动化程度低，初期投入低）
2、反渗透-离子交换设备制取去离子水，水质稳定，纯度较高，其基本工艺流程为：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→混床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
（特点：污染小，自动化程度高，初期投入中等，价格适中）
3、反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制取去离子水的的方式，这是一种制取超纯水的Zui新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
（特点：环保，自动化程度高，初期投入大，价格相对比较贵。）
处理步骤
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从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ：
1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质。
2、然后高压通过反渗透膜。
3、Zui后一般还要经过紫外杀菌以去除水中的微生物。
4、假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程Zui高电阻率可达到18兆。
相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电阻率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水。
主要用途
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1、实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等；
2、电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等；
3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐；
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等；
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等；
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等；
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水；
8、海水、苦咸水等净化。
新型设备
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被广泛应用的EDI系统就是如今Zui为热门的新型电除盐系统 [2] ，它取代传统离子混床装置成为纯水行业的新星。EDI系统不但弥补了传统工艺的缺陷简化工艺步骤，而且还提高生产效率；不论是从设备本身的性能，还是经济投资方面都比传统的去离子水设备更具优势。
标准：
1、无色的澄明液体、无臭、无味。
2、电阻率大于0.5 MΩ·cm（兆欧·厘米） Zui高电阻率可达到18兆。
3、去离子水的纯度比蒸馏水的高。
